晶圆是制作硅半导体IC所用之硅晶片，状似圆形，故称晶圆。材料是「硅」， IC（Integrated Circuit）厂用的硅晶片即为硅晶体，因为整片的硅晶片是单一完整的晶体，故又称为单晶体。但在整体固态晶体内，众多小晶体的方向不相，则为复晶体（或多晶体）。生成单晶体或多晶体与晶体生长时的温度，速率与杂质都有关系。那么，半导体无尘车间结合工艺有哪些相关的技术和使用管理办法呢？

1、半导体无尘车间内部要确保粉尘只出不进，因此无尘车间室内要保持大于大气压的环境，这就需要用大型鼓风机将经净化设备的空气源源不绝地打入无尘车间中。

2、所有经净化没备的空气流动方向均由上往下为主，因此，洁净无尘车间室内空间设计或机台摆放应避免突兀，使尘细菌等在洁净无尘车间内回旋停滞的机会与时间减至最低程度。

3、为保持无尘车间恒温与恒湿，大型空调设备须搭配前述之鼓风加压系统使用，鼓风机加压多久，空调就得开多久。

4、所有建材均以不易产生静电吸附的材质为主，所有人或事物进出无尘车间，人必须穿配意防尘服，人或事物都要经过风淋室吹淋以将表面粉尘先行除掉，

5、半导体无尘车间所有用得到的气源，包括吹干晶圈及机台空压所需要的，都得使用薰气（98%），吹干晶圆的氮气甚至要求99.8%以上的高纯氮。6、半导体洁净无尘车间内水的使用只限用去离子水，则防止水中粉粒污染晶圈，一则防止水中重金属离子（如钾、钠子）污染金氧半晶体管结构之带电载子信道，影响半导体组件的工作特性。去离子水是最佳的溶剂与满洁剂，在半导体工业之使用量极为惊人。

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